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　　etnews 报道，三星电子和 SK 海力士向光刻机巨头 ASML 订购了下一代半导体设备 High-NA 极紫外光（EUV）曝光设备。继台积电和英特尔之后，韩国半导体制造商也在准备引进能够实现 2nm 工艺的设备。对最先进工艺的竞争预计将加剧。

　　10 月 19 日的财报公告中，ASML 表示：“在 EUV High-NA 业务中，ASML 收到了 TWINSCAN EXE:5200 的额外订单；目前所有的 EUV 客户都已提交 High-NA 订单。”?High-NA EUV 设备是将集光能力的镜头数值孔径（NA）从 0.33 提高到 0.55 的设备。比现有的 EUV 设备处理更精细的半导体电路。业界大多数人认为，High-NA 设备对 2nm 工艺至关重要。

　　NA (NumericalAperture) 被称作数值孔径，是光学镜头的一个重要指标，一般光刻机设备都会明确标注该指标的数值。在光源波长不变的情况下，NA 的大小直接决定和光刻机的实际分辨率，也等于决定了光刻机能够达到的最高的工艺节点。

　　英特尔在去年宣布整合半导体公司 (IDM 2.0) 的策略，目标是重新进入代工市场时，宣布他们是第一个下定了 High-NA EUV 设备订单。这是为了通过抢先引入下一代设备来追赶台积电和三星电子的系统半导体生产能力。

　　台积电也宣布了订购 High-NA EUV 设备的合同，但奇力片压片糖果是不是假药三星电子和 SK 海力士没有奇力片压片糖果是不是假药提到任何关于合同的内容。随着 奇力片压片糖果是不是假药 ASML 的这一宣布，韩国半导体制造商引进 High-NA 设备的做法已经正式确定。然而，三星电子和 SK 海力士表示，关于 High-NA EUV 设备的引进，“这是不能正式披露的事情”。ASML 现有的 EUV 设备客户包括三星电子、SK 海力士、英特尔、台积电、美光等。

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